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Dissertation zugänglich unter
URN: urn:nbn:de:gbv:18-74155
URL: http://ediss.sub.uni-hamburg.de/volltexte/2015/7415/


Reinigungseffekte des VECTOR 2-Protoypgeräts auf verschiedene Implantatoberflächen

Sollich, Meike

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SWD-Schlagwörter: Periimplantitis , Implantat , Ultraschall , Reinigung , Rauigkeit
Basisklassifikation: 44.96
Institut: Medizin
DDC-Sachgruppe: Medizin, Gesundheit
Dokumentart: Dissertation
Hauptberichter: Schmage, Petra (Prof. Dr.)
Sprache: Deutsch
Tag der mündlichen Prüfung: 02.07.2015
Erstellungsjahr: 2015
Publikationsdatum: 17.07.2015
Kurzfassung auf Deutsch: Diese In-vitro-Studie sollte klären, welches der optimale Anpressdruck des Ultraschall-Prototypen Vector 2 (Fa. Dürr Dental, Bietigheim-Bissingen) mit verschiedenen Prototypaufsätzen zur Implantatreinigung aus PEEK-Materialien (Keramik, Kohlefaser kurz, Kohhlefaser lang und Natur) an strukturpolierten und gestrahlt-geätzten Titanoberflächen ist (I) und ob Oberflächenbeschädigungen oder Rauigkeitsveränderungen erkennbar sind (II). Des Weiteren wurden die Aufsätze nach Gebrauch auf Abnutzungsspuren untersucht (III). Anschließend wurde die Reinigungseffektivität der vier Prototypaufsätze verglichen (IV), sowie der Einfluss des Vector Fluid polish bei Reinigung untersucht (V). Als Referenzgeräte dienten der Piezon Master 700 (Fa. EMS, Nyon, Schweiz) mit dem Aufsatz PI und die SONICflex 2003 L (Fa. KaVo, Biberach) mit Aufsatz implant.
Es wurde ein In-vitro Studiendesign gewählt und die Untersuchung in drei Versuchskomplexe unterteilt. Im Versuchskomplex I wurde mithilfe einer Luftschlittenapparatur und einer Waage an jeweils fünf Titanoberplättchen jeder Oberfläche mit steigendem Druck punktuell und linear bearbeitet und anschließend licht- und rasterelektronenmikroskopisch auf Bearbeitungsspuren untersucht. Der höchste Anpressdruck, bei dem keine Spuren erkennbar waren, wurde als optimaler Anpressdruck definiert und für die weiteren Versuche verwendet. Außerdem wurden die Aufsätze auf Abnutzungsspuren untersucht. Im Versuchskomplex II wurden die Titanplättchen mit dem optimalen Anpressdruck bearbeitet, auf Bearbeitungsspuren untersucht und anschließend laserprofilometrisch die Rauigkeitsparameter Sa (mittlere Rauheit) und Sdr (Surface area ratio) ermittelt und statistisch ausgewertet. Im Versuchskomplex III wurde die Reinigungseffektivität ermittelt, indem die Titanplättchen mit einem gleichmäßigen Strepptococcus-mutans-Rasen bewachsen und unter Verwendung der optimalen Anpressdrücke jedes Aufsatzes visuell gereinigt wurden. Die verbliebene Restplaque wurde mit Mira-2-tone sichtbar gemacht und im Anschluss wurde computergestützt die Reinigungseffektivität errechnet. Die Versuchskomplexe II und III wurden für die Vector-Aufsätze jeweils mit und ohne Verwendung des Fluid polish durchgeführt.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass der Anpressdruck an die zu reinigende Oberfläche angepasst werden muss (I). Es wurde gezeigt, dass strukturpolierte Oberflächen mit einem zwei bis vierfach höherem Druck als gestrahlt-geätzte Oberflächen gereinigt werden konnten. Unter Anwendung des ermittelten optimalen Anpressdruckes kam es auf strukturpolierten Oberflächen zu keinen signifikanten Veränderungen der Rauigkeitsparameter Sa und Sdr. Auf gestrahlt-geätzter Oberfläche hingegen wurden Glättungen des Säure-Ätz-Musters durch die Aufsätze Keramik und Natur festgestellt (II). Je weicher die Peek-Aufsätze durch die verschiedenen Zusätze waren, desto höher war der Instrumentenabrieb (III) und desto geringer stellten sich aber auch die Oberflächenveränderungen dar. Die Reinigungseffektivitäten der Aufsätze lagen mit über 97% insgesamt sehr hoch. Restbeläge wurden lediglich in tiefen Senken oder vorgeschädigten Oberflächenarealen nachgewiesen (IV). Die Verwendung des Vector Fluid polish führte auf strukturpolierter Oberfläche zu einer nicht signifikanten Aufrauhung der Oberfläche, auf gestrahlt-geätzter Oberflächen vereinzelt zu signifikanten Glättungen. Die Reinigungseffektivität auf gestrahlt-geätzten Oberflächen konnte unter Zuhilfenahme des Fluid polish gesteigert werden (V).

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